인하대, 포토레지스트 개발 연구 선도한다

포토레지스트 고분자 합성효율 극대화 및 차세대 소재 개발 방안 제시

[일요신문] 인하대학교(총장 조명우) 고분자공학과 이진균 교수와 화학과 김명웅 교수가 이끄는 공동연구팀의 포토레지스트 개발 관련 연구논문이 영국 왕립화학회가 발간하는 ‘폴리머 케미스트리(Polymer Chemistry)’에 게재됐다고 8일 밝혔다.

(왼쪽부터) 인하대학교 고분자공학과 이진균 교수, 화학과 김명웅 교수. 사진=인하대 제공

이진균 교수와 김명웅 교수는 포토레지스트에서 고분자 합성효율을 극대화하도록 연속흐름 반응공정의 도입을 제안했다. 더불어 10nm 이하의 패턴형성 시 조절해야 할 고분자의 구조 파라미터를 연구해 차세대 포토레지스트 소재의 개발 방향을 제시했다. 해당 연구결과가 담긴 논문(영문명: Comprehensive Studies of Continuous Flow Reversible Addition-Fragmentation Chain Transfer Copolymerization and Its Application for Photoimaging Materials)은 고분자화학 분야 저명 국제 학술지인 ‘폴리머 케미스트리(Polymer Chemistry)’지 13권 31호에 게재됐다. 

또한 김명웅 교수는 기능성 고분자 구조 설계 및 정밀합성, 다양한 응용분야의 연구성과를 인정받아 ‘폴리머 케미스트리’의 2022년 ‘촉망받는 연구자’로 선정됐다. 

포토레지스트 소재는 반도체 생산공정에서 회로를 그리는 리소그래피 공정의 핵심 화학소재다. 자외선을 이용해 전자회로 이미지를 실리콘 기판에 그려넣는 패턴형성공정에 반드시 필요한 핵심 소재로 국산화를 위한 기술 개발이 매우 중요하다.

이진균·김명웅 교수의 공동연구팀은 여러 산업체 및 산업통상자원부 산하 한국산업기술평가관리원에서 반도체 패터닝 및 디스플레이 화소 형성 포토레지스트 개발 과제를 수주해 포토패터닝 소재 연구에 매진하고 있다. 대학원 인력양성사업인 반도체소재부품인력양성사업에도 참여하며 반도체 소재 기술 교육에도 기여하고 있다.

이진균 인하대학교 고분자공학과 교수는 “우리 연구팀은 포토레지스트 기술을 연구하는 국내 몇 안 되는 그룹이다”라며 “향후에도 성공적으로 연구과제들을 수행해 인하대학교가 반도체‧디스플레이 공정용 화학소재 분야의 선두가 될 수 있도록 노력하고 관련 우수 신진 인력 배출을 위해 최선을 다하겠다”라고 말했다.

김명웅 인하대학교 화학과 교수는 “이번 연구는 차세대 포토레지스트 기초 및 실용 모두 아우른 연구다”라며 “이를 기반으로 광감성 고분자 구조 이해, 정밀 합성 및 활용에 대한 종합적인 연구를 진행할 계획이다”라고 밝혔다.

박창식 경인본부 기자 [e-mail]